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宁夏（f）原始SiOx/TiO2@MLG和SiOx/G的EIS谱图。（d，石嘴山积e）SiOx/TiO2@MLG的倍率性能及对应的充放电曲线（f）SiOx/TiO2@MLG在2Ag-1的电流密度下的长循环性能。

（a）SiOx/G，极争级绿SiOx/SiO2/G，SiOx/Co3O4/G和SiOx/TiO2@MLG的XRD谱图。

取自区试（a）SiOx/TiO2@MLG的剥离和自组装涂层工艺的示意图。他先后发现了分子间电荷转移激子的限域效应、治区多种光物理和光化学性能的尺寸依赖性。

获日中科技交流协会有山兼孝纪念研究奖(1992)、电园点香港求是科技基金会杰出青年学者奖(1997)、电园点中国分析测试协会科学技术奖一等奖(2005)、教育部高等学校科学技术奖自然科学一等奖(2007)、国家自然科学二等奖(2008, 2017)、中国化学会-阿克苏诺贝尔化学奖(2012)、宝钢优秀教师特等奖(2012)、日本化学会胶体与界面化学年会Lectureship Award(2016)、北京大学方正教师特别奖(2016)、北京市优秀教师(2017)、ACS Nano LectureshipAward(2018)等。长期从事新型光功能材料的基础和应用探索研究，宁夏在低维材料、纳米光电子学等方面做出了开创性贡献。

石嘴山积2014年度中国科学院杰出科技成就奖。极争级绿2014年以成果低维光功能材料的控制合成与物化性能获国家自然科学奖二等奖(第一获奖人)。